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इलेक्ट्रॉनिक उद्योग के लिए आर्गन गैस (Ar)
| वस्तु | तकनीकी संपत्ति | |
| आर्गन (Ar) शुद्धता (आयतन अंश)/10-2≥ | 99.9999 | 99.9992 |
| हाइड्रोजन (H2) सामग्री (आयतन अंश)/10-6≤ | 0.1 | 1 |
| नाइट्रोजन (N2) सामग्री (आयतन अंश)/10-6≤ | 0.5 | 5 |
| ऑक्सीजन (O2) सामग्री (आयतन अंश)/10-6≤ | 0.2 | 0.5 |
| कार्बन मोनोऑक्साइड (CO) और कार्बन डाइऑक्साइड (CO .) की कुल मात्रा2), (आयतन अंश)/10-6≤ | कार्बन मोनोऑक्साइड: 0.1 कार्बन डाइऑक्साइड: 0.1 | 0.5 |
| कुल हाइड्रोकार्बन (मीथेन द्वारा गणना) सामग्री (आयतन अंश)/10-6≤ | 0.1 | 0.5 |
| पानी (एच2ओ) सामग्री (आयतन अंश)/10-6≤ | 0.2 | 0.5 |
| कुल अशुद्धता सामग्री (आयतन अंश)/10-6≤ | 1 | 8 |
| अनाज | आपूर्तिकर्ता और मांगकर्ता द्वारा सहमति | आपूर्तिकर्ता और मांगकर्ता द्वारा सहमति |
| नोट: तरल आर्गन की जल सामग्री गैसीकरण के बाद मापी जाएगी | ||
अनुप्रयोग क्षेत्र: मुख्य रूप से सिस्टम के शुद्धिकरण, संरक्षण और दबाव के लिए उपयोग किया जाता है। इसका उपयोग रासायनिक वाष्प जमाव, स्पटरिंग, प्लाज्मा और सक्रिय आयन नक़्काशी, एनीलिंग और अन्य विभिन्न प्रक्रियाओं के साथ-साथ इलेक्ट्रॉनिक विशेष मिश्रित गैस में भी किया जा सकता है।
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