מוצרים
גז ארגון לתעשיית האלקטרוניקה (Ar)
| פָּרִיט | נכס טכני | |
| טוהר ארגון (Ar) (חלק נפחי)/10-2≥ | 99.9999 | 99.9992 |
| מימן (H2) תוכן (חלק נפחי)/10-6≤ | 0.1 | 1 |
| חנקן (N2) תוכן (חלק נפחי)/10-6≤ | 0.5 | 5 |
| חמצן (O2) תוכן (חלק נפחי)/10-6≤ | 0.2 | 0.5 |
| תכולה כוללת של פחמן חד-חמצני (CO) ופחמן דו-חמצני (CO)2), (חלק נפחי)/10-6≤ | פחמן חד-חמצני: 0.1 פחמן דו-חמצני: 0.1 | 0.5 |
| תכולת פחמימנים כוללת (מחושבת לפי מתאן) (חלק נפחי)/10-6≤ | 0.1 | 0.5 |
| מים (H2O) תוכן (חלק נפחי)/10-6≤ | 0.2 | 0.5 |
| תכולת טומאה כוללת (חלק נפחי)/10-6≤ | 1 | 8 |
| תְבוּאָה | מוסכם על ידי הספק והדורש | מוסכם על ידי הספק והדורש |
| הערה: יש למדוד את תכולת המים של ארגון נוזלי לאחר גיזוז. | ||
תחום יישום: משמש בעיקר לניקוי, הגנה והפעלת לחץ במערכת. ניתן להשתמש בו גם בתהליך שקיעת אדים כימית, התזה, איכול פלזמה ויונים פעילים, חישול ותהליכים שונים אחרים, כמו גם בגז מעורב מיוחד לאלקטרוניקה.
כתבו את הודעתכם כאן ושלחו אותה אלינו
