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高純度クリプトンおよび超高純度クリプトン（Kr：5N、5.5N、6N）
| アイテム | 技術的財産 | ||
| 高純度クリプトン GB/T5829-2006 | 超高純度クリプトン | ||
| Kr純度（体積分率）/10-2≥ | 99.999 | 99.9995 | 99.9999 |
| 窒素（N2）含有量（体積分率）/10-6≤ | 2 | 1.5 | 0.2 |
| 酸素（O2）含有量（体積分率）/10-6≤ | 1.5(O2+Ar) | 0.5(O2+Ar) | 0.1 |
| アルゴン（Ar）含有量（体積分率）/10-6≤ | 0.05 | ||
| 水素（H2）含有量（体積分率）/10-6≤ | 0.5 | 0.2 | 0.05 |
| 一酸化炭素（CO）含有量（体積分率）/10-6≤ | 0.3 | 0.1 | 0.05 |
| 二酸化炭素（CO2）含有量（体積分率）/10-6≤ | 0.4 | 0.1 | 0.05 |
| メタン（CH4）含有量（体積分率）/10-6≤ | 0.3 | 0.1 | 0.05 |
| 水（H2O)含有量（体積分率）/10-6≤ | 2 | 1 | 0.2 |
| キセノン（Xe）含有量（体積分率）/10-6≤ | 2 | 1 | 0.2 |
| フッ化物（CF4）含有量（体積分率）/10-6≤ | 1 | 0.2 | 0.05 |
応用分野：主に半導体産業、電気真空産業、電気光源産業、レーザーガス、医療健康などの分野で使用されています
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