ఉత్పత్తులు
ఎలక్ట్రానిక్ పరిశ్రమకు ఆర్గాన్ వాయువు (Ar)
| అంశం | సాంకేతిక ఆస్తి | |
| ఆర్గాన్ (Ar) స్వచ్ఛత (పరిమాణ భిన్నం)/10-2≥ ≥ లు | 99.9999 | 99.9992 ద్వారా అమ్మకానికి |
| హైడ్రోజన్ (H2) కంటెంట్ (వాల్యూమ్ భిన్నం)/10-6≤ (ఎక్స్‌ప్లోరర్) | 0.1 समानिक समानी 0.1 | 1 |
| నైట్రోజన్ (N2) కంటెంట్ (వాల్యూమ్ భిన్నం)/10-6≤ (ఎక్స్‌ప్లోరర్) | 0.5 समानी0. | 5 |
| ఆక్సిజన్ (O2) కంటెంట్ (వాల్యూమ్ భిన్నం)/10-6≤ (ఎక్స్‌ప్లోరర్) | 0.2 समानिक समानी समानी स्तुऀ स्त | 0.5 समानी0. |
| కార్బన్ మోనాక్సైడ్ (CO) మరియు కార్బన్ డయాక్సైడ్ (CO) మొత్తం కంటెంట్2), (వాల్యూమ్ భిన్నం)/10-6≤ (ఎక్స్‌ప్లోరర్) | కార్బన్ మోనాక్సైడ్: 0.1 కార్బన్ డయాక్సైడ్: 0.1 | 0.5 समानी0. |
| మొత్తం హైడ్రోకార్బన్ (మీథేన్ ద్వారా లెక్కించబడుతుంది) కంటెంట్ (వాల్యూమ్ భిన్నం)/10-6≤ (ఎక్స్‌ప్లోరర్) | 0.1 समानिक समानी 0.1 | 0.5 समानी0. |
| నీరు (హెచ్2O) కంటెంట్ (వాల్యూమ్ భిన్నం)/10-6≤ (ఎక్స్‌ప్లోరర్) | 0.2 समानिक समानी समानी स्तुऀ स्त | 0.5 समानी0. |
| మొత్తం కల్మషం కంటెంట్ (పరిమాణ భిన్నం)/10-6≤ (ఎక్స్‌ప్లోరర్) | 1 | 8 |
| ధాన్యం | సరఫరాదారు మరియు డిమాండ్దారు అంగీకరించారు | సరఫరాదారు మరియు డిమాండ్దారు అంగీకరించారు |
| గమనిక: ద్రవ ఆర్గాన్ యొక్క నీటి శాతాన్ని గ్యాసిఫికేషన్ తర్వాత కొలవాలి. | ||
అప్లికేషన్ ఫీల్డ్: ప్రధానంగా వ్యవస్థ యొక్క ప్రక్షాళన, రక్షణ మరియు ఒత్తిడి కోసం ఉపయోగిస్తారు.ఇది రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ, స్పట్టరింగ్, ప్లాస్మా మరియు యాక్టివ్ అయాన్ ఎచాంట్, ఎనియలింగ్ మరియు ఇతర విభిన్న ప్రక్రియలలో అలాగే ఎలక్ట్రానిక్ ప్రత్యేక మిశ్రమ వాయువులో కూడా ఉపయోగించవచ్చు.
మీ సందేశాన్ని ఇక్కడ వ్రాసి మాకు పంపండి.
